삼성전자는 2030년까지 시스템 반도체 분야 연구·개발 및 생산시설 확충에 133조 원을 투자하고 전문 인력 1만5000명을 채용한다고 24일 밝혔다.

이는 삼성전자가 2030년까지 메모리 반도체뿐만 아니라 시스템 반도체 분야에서도 글로벌 1위를 달성하겠다는 ‘반도체 비전 2030’을 이룩하기 위한 기반이라는 게 삼성전자의 설명이다.

삼성전자는 또한 시스템 반도체 인프라와 기술력을 공유해 팹리스(Fabless, 반도체 설계 전문업체), 디자인하우스(Design House, 설계 서비스 기업) 등 국내 시스템 반도체 생태계에서 경쟁력을 강화할 방침이다.

삼성전자 관계자는 “과감하고 선제적으로 투자하고 국내 중소업체와 상생 협력해 한국 시스템 반도체 산업 발전에 앞장설 계획”이라고 말했다.

삼성전자는 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 2030년까지 국내 연구·개발(R&D) 분야에 73조 원, 최첨단 생산 인프라에 60조 원을 투자한다. R&D 투자 금액이 73조 원 규모에 달해 국내 시스템 반도체 연구·개발 인력 양성에 기여할 것으로 기대된다. 또한 생산시설 확충에도 60조 원이 투자돼 국내 설비·소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 발전에도 긍정적인 영향이 예상된다.

삼성전자는 향후 화성캠퍼스 신규 EUV라인을 활용해 생산량을 증대하고 국내 신규 라인 투자도 지속 추진할 계획이다.

정옥재 기자